檢索結果：共9筆資料 檢索策略： "Lithography".ekeyword (精準) and cdept.raw="機械工程系"
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本研究應用浸潤式微影概念於先前實驗室研發設計的顯微鏡式DMD(Digital Micromirror Device)無光罩微影系統(Maskless Photolithography System)…
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摘 要 科技的進步，對環境的汙染日趨嚴重，於工業界有毒氣體外洩的事件時有所聞；而在日常生活中，每到冬天常有一氧化碳中毒的事件發生，因此氣體感測器的發展倍受重視。氣體感測器除了廣泛運用於工業安全之外，…
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本論文的研究方向是將無光罩微影技術結合積層製造之光成型加工技術，選用下照式成型系統，設計出能製作大面積微結構的曝光機。相較以往的顯微鏡微影系統，本系統單次曝光面積大，能製作出的微結構數量更多，配合高…
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本論文主要方向為積層製造(Additive Layer Manufacturing)系統結合無光罩微影(Maskless lithography)系統，並嘗試進行大面積影像拼接處理。 積層製造顧名…
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光學加工已經是目前科技中相當重要的一環，其中光微影製程為最重要的積體電路或微機電元件生產技術，由於元件開發往「輕、薄、短、小、低成本」的趨勢進行製程的開發；在微影製程中，傳統的方式已經無法再將尺寸縮…
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本論文主要是開發以動態光罩微影系統應用於3D列印 (3 Dimension Printing，3DP)技術，可製作出大面積立體微結構。 在本實驗中針對大面積立體微結構之製作其中包含了硬體、軟體及微結…
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本論文針對複合功能轉印設備開發為主軸，並研究其熱壓轉印、紫外光固化轉印、氣體輔助轉印等製程。所開發之複合功能轉印設備提供一個穩定、高精度、大面積微奈米結構轉印之平台。 熱壓轉印製程中，藉由保壓模具之…
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目前在半導體與PCB影像轉移製程上，都朝向直接成像的曝光系統上進行開發突破，以節省製作光罩所需要耗費的高成本與製作時間長的缺點，故本實驗室一直都積極的研發DMD動態無光罩系統。 由於DMD…
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本論文將利用全像術干涉微影技術、軟式微影技術以及微模轉印技術在雙通道高分子波導濾波器上製作非對稱布拉格耦合元件(asymmetric Bragg coupler based filters, ABC…